1200 ℃ 사전 가열 슬라이딩 이중 온도 영역 PECVD 시스템

제품 적용:이

PECVD 시스템은 주파수를 이용해 박막 구성 원자를 함유한 기체를 이온화해 국부적으로 플라즈마를 형성하는 반면 플라즈마는 화학적 활성이 강해 반응하기 쉬워 기판에 원하는 박막을 퇴적한다.

제품 구성:

PECVD 시스템 구성:

1.1200도 개방식 이온구역 진공관식로

2. 슬라이딩 시스템은 수동, 전동 슬라이딩으로 나뉘며 파이프 내 온도 측정 시스템을 배치한다.

3. 가열식 파이프식 전기로

4. 플라즈마 무선 전원 공급 장치

5.다중 채널 품질 흐름 제어 시스템

6. 진공 시스템 (중진공 또는 고진공 옵션)

제품 특징:

성장 온도가 낮다;퇴적 속도가 빠르다;성막은 품질이 좋고 적용 범위가 넓으며 설비가 간단하다.

천진중환전기로주식유한회사 주소: 천진시 북진구 북진과학기술단지 쌍천도 11호